DLC-C Ta Karbon Tantal Püskürtme Biriktirme Sistemi

Magnetron Sputtering, tantalum, titanyum, volfram gibi ateşe dayanıklı metaller yatırmak için yaygın olarak kullanılır.,Niobium, çok yüksek bir depolama sıcaklığı gerektirir, ve değerli metaller: Altın ve Gümüş ve ayrıca bakır, alüminyum, nikel, krom vb. gibi daha düşük erime noktası metallerinin birikimi için de kullanılır.

Tantalum en çok elektronikte kullanılır.endüstriErozyona karşı iyi direnci nedeniyle koruyucu bir kaplama olarak.

Sputtered Tantalum ince filminin uygulanmaları:
1Mikroelektronik endüstrisi, filmlerin reaktif olarak püskürtülebilmesi ve böylece direnç direnç ve sıcaklık katsayısı kontrol edilebilmesi için;

2. Yüksek biyolojik uyumluluk özelliği nedeniyle vücut implantları gibi tıbbi aletler;
3. Termowell, valf gövdeleri ve bağlayıcılar gibi korozyona dayanıklı parçalar üzerindeki kaplamalar;
4. Sputtered tantalum da kullanılabilir kaplama sürekli, kusurlu ve altyapıya yapışırsa etkili bir korozyon direnci bariyeri olarak kullanılır..

Teknik Avantajlar

1. Substrat tutucuların ve çalışma parçalarının çökme odasına girmesini ve çıkmasını kolay ve güvenli bir şekilde sağlayan standart bir araba kullanılır.
2. Sistem, yanlış çalışmayı veya güvenli olmayan uygulamaları önlemek için güvenlik bağlantılıdır.
3. Yüksek hassasiyet için oda merkezine monte edilen alt katman ısıtıcıları, yoğunlaşma filminin yapışkanlığını artırmak için PID kontrolü termokople sunulmaktadır.
4. Güçlü vakum pompaları, odaya bağlı kapı valfi aracılığıyla manyetik olarak asılı moleküler pompa ile yapılandırılmıştır; Leybold'un kök pompası ve iki aşamalı döner kanat pompası ile desteklenir.
5. Yüksek enerjili iyonlaştırılmış plazma kaynağı bu sistemle uygulanır, aynılık ve yoğunluğu garanti eder.
   
   
   

Royal Technology'nin standartlaştırılmış Tantalum püskürtme deppozisyon sistemi: RTSP1000

İçeride:

2018 yılında inşa edildi.

Yer: Çin

Daha fazla uygulama ve özellik için lütfen bizimle iletişime geçin.