Tantalum (Ta) Thin Film Magnetron Sputtering Deposition System-RTSP1000

Tantalumun çökmesi, Altın değerli metaller Sputtering 

Sputtering, tantal, titanyum, volfram gibi ateşe dayanıklı metaller için yaygın olarak kullanılır.,Niobium, çok yüksek depolama sıcaklıklarını gerektirir, ve değerli metaller: Altın ve Gümüş ve aynı zamanda daha düşük erime noktaları olan bakır, alüminyum, nikel, krom vb.

Tantalum en çok elektronikte kullanılır. endüstriErozyona karşı iyi direnci nedeniyle koruyucu bir kaplama olarak.

Sputtered tantalum filmleri yaygın olarak kullanılır.
1Mikroelektronik endüstrisi, filmlerin reaktif olarak püskürtülebilmesi ve böylece direnç direnç ve sıcaklık katsayısı kontrol edilebilmesi için;

2Yüksek biyolojik uyumluluk özelliği için vücut implantları gibi tıbbi aletler;

3. termowelller, valf gövdeleri ve bağlayıcılar gibi korozyona dayanıklı parçaların kaplamaları;

4.Sputtered tantalum da kullanılabilir kaplama sürekli, kusurlu ve altyapıya yapışırsa etkili bir korozyon direnci bariyeri olarak kullanılır..

Kraliyet Teknolojisi- Evet.Standartlaştırılmış Tantalum püskürtme deppozisyon sistemi: RTSP1000 modeli.
 Tantalum püskürtürülmüş film özellikleri:
Düşük direnç

Yüksek korozyona ve aşınmaya dayanıklı yüzey kaplamaları Yüksek streslere ve sert kimyasal ve erozif ortamlara maruz kalmaktadır. 

Tasarım özellikleri:

Güçlü tasarım, istikrarlı kalite, hızlı döngü, yüksek hassaslık sistemi

Ekipman yapısı:

Kaplama sistemi yapısı: Dikey yönelim, sekizgen yapısı, kolay erişim için 2 kapı.

Çevre dostu bir sistem, tehlikeli atık yok.

Toplam entegrasyon, modüler tasarım
Endüstriyel seri üretim için ticarileştirilmiş ve standartlaştırılmış
Çok etkili bir iyon kaynağı güçlü yapışkanlık ve yüksek iyonlaşma için.
Kolay Çalışma: Dokunmatik ekran + PLC kontrolü, tek dokunmatik işlem
Yüksek tekdüzelik çöküntüsü için Carousel sisteminin özel tasarımı.
Yüksek verimlilik ve istikrar, haftada 24 saat çalışmak.
Çeşitli boyutlardaki plakalar için esnek

Ana bileşenler

Yardımlı depolama işlemi için iyon kaynağı:

Plazma iteching süreci için iyon kaynağı:

RT1200-FCEV makine, çeşitli sert kaplamalar, yumuşak kaplamalar,Metal ve metal olmayan malzemelerin substratları üzerindeki bileşik filmler ve katı yağlandırma filmleriHidrojen yakıt hücresi araçları, fotonik ürünler, havacılık ve diğer yeni enerji endüstrileri endüstrilerine uygulanır.

Depozisyon filmlerinin performansları:

Yüzeyin iletkenliğini iyileştirmek için;

Yüksek korozyon direnci;

Yüksek aşınma direnci;

Yüksek sertlik

Hidrofobik kompozisyon filmi ve diğer fonksiyonel filmler

Bileşik kaplamalar için kullanılabilir: metal ve metal olmayan filmler.

Film kalınlığı aralığı 100nm'den 12μm'e kadar, kalınlık toleransı ±5%

Güçlü yapışkanlık.

Düşük ısıtmalı parçaların yüzey sertleştirme işlemi.

Tip:

Dikey yönelim, oktal yapı, 2 kapılı (ön ve arka)

Tasarım avantajları:

• Çevre dostu sistem, endüstriyel atık su, hava ve gürültü kirliliği yok;
• Kolay Çalışma: Dokunmatik ekran + PLC kontrolü ve tek dokunmatik işlem için benzersiz yazılım programı, %80'den fazla sorun ateş alarmı.
• 10'a kadar işleme tarifi giriş ve yedekleme; yüksek tekrar edilebilirlik ve çeşitlilik.
• Film çöküntüsünün yüksek tekdüzeliği için Carousel sisteminin özel tasarımı.
• Yüksek verimlilik ve yüksek kalite
• Dayanıklı ve güvenilir sistem, 365 gün * 24 saat çalışıyor (bakım ve onarım kesinti süresi)
• Verimlilik pompalama sistemi: tanınmış Avrupa pompa markaları ile maksimum boru hızı için daha kısa vakum boru hatları
• Kompakt tasarım minimum kurulum alanını kaplar.

Royal Tech ekibi size en iyi hizmeti sunmaktan onur duyuyor. Bilgi.