December 11, 2017
Vakumla buharlaştırma, bir termal buharlaşma kaynağından gelen malzemenin ulaştığı bir PVD prosesidir.
Kaynak ve substrat arasındaki boşlukta gaz molekülleri ile çarpışma olmadan substrat. Yörünge
Buharlaştırılmış malzemenin “görüş hattı”. Vakum ortamı ayrıca azaltma kabiliyeti sağlar.
biriken filmdeki gaz kirliliği.
Vakum Buharlaşmasının Avantajları
1. Yüksek saflıkta filmler yüksek saflıkta kaynak materyalden depolanabilir.
2. Yatılacak malzemenin kaynağı herhangi bir biçimde ve saflıkta katı olabilir.
3. Görüş çizgisi ve “sınırlı alan kaynakları”, maskelerin birikim alanlarını tanımlamasına izin verir.
4. Biriktirme izleme ve kontrolü nispeten kolaydır.
5. Muhtemelen PVD süreçlerinin en az kapsamıdır.
Vakum Buharlaşmasının Dezavantajları
1. Birçok alaşım bileşimi ve bileşiği sadece zorlukla biriktirilebilir.
2. Görüş alanı ve sınırlı alan kaynakları, uygun alt tabaka fikstürü ve hareketi olmaksızın karmaşık yüzeylerde zayıf yüzey kaplaması ile sonuçlanır.
3. Görüş çizgileri ve sınırlı alan kaynakları, geniş alanlar üzerinde zayıf film kalınlığı homojenliğine neden olur.
Film özellikleri, biriktirme materyalinin akışının “insidans açısı” na dayanır.
4. Yüzey kaplamasının ve kalınlık tekdüzeliğinin geliştirilmesi için hareket kabiliyetine sahip substrat fikstürü gereklidir.
5. Film özellik kontrolü için az işlem değişkenleri mevcuttur.
6. Kaynak malzeme kullanımı zayıf olabilir.
7. Depozisyon sisteminde yüksek radyan ısı yükleri bulunabilir.
Vakum Buharlaştırma Uygulamaları
Vakum Buharlaşması, optik girişim kaplamaları, ayna kaplamaları, dekoratif kaplamalar, esnek ambalaj malzemeleri üzerindeki geçirgenlik bariyeri filmleri, elektrik iletken filmler ve korozyon koruyucu kaplamalar biçiminde kullanılır.
Buharlaşma ile EMI film kaplama işlemi.
Talep ve uygulamalarınız için lütfen Kraliyet Teknolojisine danışın. Ekibimiz tutkumuz ve tekniğiyle sizlere hizmet etmekten onur duyar.
